СтатьиНовостиОбзоры
Изменения как для Intel, так и для всей отрасли ПК и серверов выглядят очень серьезными. Новый производственный процесс всегда ведет к появлению еще более компактных и быстрых чипов, а регулярное представление новых технологий помогает закону Мура сохранять свою актуальность. В последние годы в Intel в первый год очередного цикла переходили на новый производственный процесс, а во второй представляли новую процессорную архитектуру (так называемый цикл «tick-tock»). Если переход на 10-нанометровый производственный процесс состоится в 2017 году, а новая процессорная архитектура будет представлена на год раньше, мы впервые станем свидетелями цикла «tick-tock-tock». Переход на нынешний 14-нанометровый технологический процесс – это «tick», появление микроархитектуры Skylake – первый «tock», а создание Kaby Lake – второй. При этом Кржанич заметил, что точные временные параметры закона Мура пересматриваются уже не впервые. Когда в 1965 году Гордон Мур сделал свое знаменитое предсказание, в нем говорилось, что число транзисторов на чипе будет удваиваться ежегодно в течение ближайших десяти лет. В 1975 году прогноз потребовалось скорректировать: удвоение числа транзисторов будет происходить через каждые два года. «Переход такого рода стал естественной частью истории закона Мура и был обусловлен техническими сложностями дальнейшего уменьшения размеров транзисторов в условиях больших объемов производства», — заявил Кржанич, признав, что темпы создания новых производственных процессов уже замедляются. С момента появления 22-нанометрового процесса до перехода на нынешнюю 14-нанометровую технологию прошло два с половиной года. (В нанометрах здесь выражены размеры наименьшего элемента, вытравливаемого на поверхности микросхемы.) Объявив о том, что 10-нанометровый процесс будет запущен в 2017 году, в Intel официально обрисовали ожидаемые сроки, задав ориентир клиентам и производителям ПК. «Клиенты хотят, чтобы мы были предсказуемыми, – отметил Кржанич. – И это имеет очень важное значение для всех, кто находится на переднем крае развития технологий»". Генеральный директор Intel не стал пояснять, почему переход на 10-нанометровый технологический процесс откладывается, но намекнул, что проблемы аналогичны тем, из-за которых переход на 14-нанометровую технологию продолжался дольше ожидаемого. «Могу сказать, что сейчас происходит нечто похожее на то, с чем мы столкнулись при внедрении 14-нанометрового технологического процесса, – подчеркнул он. – Но для каждой технологии приходится искать свой рецепт преодоления возникающих трудностей. При дальнейшем уменьшении масштабов литография все более усложняется. Речь идет о процессе вытравливания шаблонов транзисторов на кремниевых дисках в процессе производства чипов». Кржанич подтвердил, что после перехода на норму проектирования 10 нм Intel не планирует использовать технологию экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). При переходе от 10-нанометровой к 7-нанометровой технологии корпорация намерена вернуться к двухлетнему циклу. Впрочем, каждый такой процесс уникален и порождает свои задачи в области наук о материалах и других сферах, поэтому пока утверждать что-либо определенное еще слишком рано. «Тем не менее, мы постараемся сделать все возможное для того, чтобы вернуться обратно к двухлетнему циклу», – заявил Кржанич.
